機(jī)械拋光機(jī)與電化學(xué)拋光機(jī)的區(qū)別

電化學(xué)拋光機(jī)拋光法：

1.通過(guò)電化學(xué)溶解的方法使金屬表面獲得平滑或光亮的表面效果。

2.部分材料表面會(huì)出現(xiàn)氧化膜形成。

3.拋光表面的耐蝕性好，光亮面的持續(xù)時(shí)間長(zhǎng)。

4.基體材料的構(gòu)成與結(jié)構(gòu)對(duì)拋光表面效果影響大。

5.缺點(diǎn)是拋光后會(huì)殘留大的凹凸處條紋。

6.改變材質(zhì)和拋光條件易獲得亞光或橘皮狀表面。

7.優(yōu)點(diǎn)是形狀復(fù)雜、細(xì)小的零件及薄極易于拋光。

8.另外化學(xué)拋光速度快，產(chǎn)量大，生產(chǎn)率高，易自動(dòng)化生產(chǎn)。

9.缺點(diǎn)是大件物品拋光難。

10.適于軟質(zhì)合金的拋光。

11.拋光材料的消耗少，成本較低。

12.拋光面無(wú)應(yīng)力，不會(huì)夾雜磨料。

13.可提高硅鋼片的導(dǎo)磁率10%—15%，降低滯后損失10%—12%。

機(jī)械拋光機(jī)拋光法：

1.通過(guò)切削、變形和磨耗使金屬表面光滑或光亮的表面效果。

2.表面會(huì)形成冷作硬化的變形層。

3.缺點(diǎn)是耐蝕性差，光亮持續(xù)時(shí)間短。

4.優(yōu)點(diǎn)主要是基體材料對(duì)拋光效果的影響很小。

5.產(chǎn)品表面不留凹凸處和條紋。

6.無(wú)法獲得亞光和橘皮狀表面。